德國(guó)SYMPATEC公司可以提供以下不同型號(hào)的儀器，以滿足不同用戶的使用要求：
1. 干法測(cè)量激光粒度儀HELOS/RODOS（<0.1-3500微米）
2. 干法測(cè)量激光粒度儀HELOS/RODOS（0.5-8750微米）
3. 濕法測(cè)量激光粒度儀HELOS/QUIXEL（0.1-3500微米）
4. 濕法測(cè)量激光粒度儀HELOS/SUCELL（0.1-875微米）
5. 干濕二合一測(cè)量激光粒度儀HELOS/OASIS（0.1-3500微米）
6. 新納米測(cè)試技術(shù)－光子交叉相關(guān)廣譜法（PCCS）納米粒度測(cè)量?jī)x（1-10000納米）
7. 新動(dòng)態(tài)顆粒圖像分析儀QICPIC（1-20000微米）
8. 用于生產(chǎn)過程控制的干法在線檢測(cè)激光粒度儀TWISTER&MYTOS（0.25-3500微米）
9. 高濃度懸浮液乳濁液及各種漿料生產(chǎn)過程中的濕法在線粒度測(cè)量?jī)xOPUS（0.01-3000微米）
10.微樣進(jìn)料干法測(cè)量激光粒度儀HELOS/ASPIROS（0.1-350微米，樣品量：μg－mg）
11.用于DPI、MDI、Neulizer粒度測(cè)量的激光粒度儀HELOS/INHALER和HELOS/SPRAYER（0.25-1750微米）
12.用于噴灑液粒度測(cè)量的激光粒度儀HELOS/VARIO（0.1-8750微米）
技術(shù)參數(shù)：
測(cè)試范圍： 0.1－875微米
數(shù)據(jù)處理： Fraunhofer或Mie理論
測(cè)量時(shí)間： 約20秒(從開始測(cè)量到顯示分析結(jié)果)
遮光比： 可達(dá)50%
分散池： 400毫升
樣品循環(huán)系統(tǒng)：
內(nèi)置超聲波：60W, 功率可調(diào)
輔助可調(diào)速率的機(jī)械攪拌分散
蠕動(dòng)循環(huán)泵：速率可調(diào)
可選件：微量進(jìn)樣器SVA（100毫升）
操作： 軟件控制標(biāo)準(zhǔn)操作程序（SOP）
主要特點(diǎn)：
1.可測(cè)量為875微米的顆粒、高密度顆粒、高濃度的溶液以及有毒有害或腐蝕性物料
2.儲(chǔ)樣池上帶有液位控制器，實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)的進(jìn)料和出料；并對(duì)分散劑的容量進(jìn)行監(jiān)測(cè)
3.一體化內(nèi)置超聲分散裝置，具有較強(qiáng)的、可調(diào)的能量輸出，達(dá)到的分散效果
4.任何樣品的測(cè)量都可在30秒之內(nèi)完成全部操作
5.功能強(qiáng)大的高度智能化操作軟件，并包含有FDA CFR 21 Part11 Model