高真空性能
Q150T裝在一個堅固的整體成型機殼中，它容納了工作部件，包括空氣冷卻的渦輪分子泵。自動進氣控制了濺射期間的真空條件。真空腔室帶有爆罩。Q150T含有的“真空閉鎖”允許在不用設備時維持腔室真空，從而真空性能。

Q150T系列三種型號
Q150TS：高分辨率磁控離子濺射鍍膜儀，可濺射易氧化及不氧化金屬（貴金屬）。可選各種濺射靶材，包括常用于場發射電鏡的銥和鉻。
Q150TE：高真空熱蒸發鍍碳儀，可制作高穩定性的碳膜和表面覆形膜，對電鏡（TEM）的應用理想。
Q150T：了濺射和蒸鍍兩種沉積鍍膜功能的鍍膜系統，沉積鍍膜頭可在數秒內快速更換，智能邏輯系統自動識別出所裝的鍍膜頭類型，并顯示相應的操作設置。
上述每個型號還可選配一系列可選附件，如：金屬蒸鍍、碳絲蒸鍍、膜厚測量等。

觸摸屏控制
Q150T的操作為簡單的觸摸屏，即使不熟練的或偶而使用的操作者，儀器也能使其快速鍵入和貯存自己的處理數據。程序中已貯存了各種典型濺射及蒸發鍍膜的參數資料，以便提供進一步的易操作幫助。

鍍膜頭選項
具有一系列可互換、即插即用的鍍膜頭：
濺射頭，可使用易氧化及非氧化金屬兩大類寬范圍靶材；并可用另外的濺射頭來快速更換鍍膜材料（為TS及T版本）
碳棒蒸發頭
碳絲蒸發頭
金屬蒸發/光闌清潔頭，包括向上蒸發或向下蒸發兩種蒸發方式（為TE和T版本）

樣品臺選項
Q150T具有各種樣品臺以滿足大部分的應用。的樣品臺更換容易，drop-in式樣（無需螺釘）并且高度可調（除旋轉行星臺）。標準配置為旋轉臺，可選：
可預設傾斜角度的旋轉臺
可變角度旋轉行星臺
用于4”晶圓的平面旋轉臺
用于顯微鏡載玻片的樣品臺

其它選項
用于高樣品的加高腔室
膜厚監測附件（FTM）
用于測量低和高真空的全范圍真空計

Q150T系列全自動高真空離子濺射/熱蒸發一體化鍍膜儀給用戶以類似傻瓜相機的簡單操作、的鍍膜質量和對熟手/新手都很理想的用戶界面，讓用戶真正領略至臻的鍍膜品質！

特點和優點: 
● 金屬濺射或碳蒸發或兩者兼備：一體化設計，節約空間
● 精細顆粒濺射：高分辨率場發射掃描電鏡（FE-SEM）制樣的精細鍍膜應用
● 渦輪分子泵高真空系統：允許不氧化貴金屬和易氧化其它金屬靶材的濺射鍍膜，大大拓寬了可濺射靶材范圍，既適合普通SEM、高分辨率FE-SEM鍍膜制樣應用，也為許多薄膜應用等材料科研領域提供理想的鍍膜平臺
● 全自動觸摸屏控制：快速數據輸入，簡單操作
● 可儲存多個客戶自定義鍍膜方案：對多用戶實驗室十分理想
● 與鍍膜過程和鍍膜材料相匹配的預編程自動真空控制
● 精細的厚度控制：使用膜厚監控選項
● “智能”式系統識別：自動感知用戶所裝的式鍍膜頭的類型
● 高真空碳蒸鍍：對SEM和TEM鍍碳膜應用理想
● 蒸發電流波形控制
● Drop-in落入式快換樣品臺（標配旋轉臺）
● 真空閉鎖功能：可讓工作腔室處于真空狀態，后續真空效果，或在真空條件下保存樣品
● 鍍制厚膜能力：真空條件下的濺射時間可長達60分鐘（材料科研領域的應用）
● 人體工程學設計的整體成型機殼：易維護和易拆裝
● 帶有本地FTP服務器連接的以太網端口：簡單的程序更新
● 設有功率因素補償，利用電能，降低運行成本
● 合當前電器法規（CE）

主要技術指標:
● 工作腔室：150mm內徑 x 127mm高
● 觸摸屏全圖像用戶界面
● 樣品臺：標配旋轉臺
● 真空系統：
    渦輪分子泵：帶有空氣冷卻的渦輪分子泵
    旋轉機械泵：雙級旋轉機械泵
● 濺射電流：0-150mA；可預設膜厚（需FTM選項）或使用內置定時器
● 濺射時間：長60分鐘
● 碳蒸發：穩定的無紋波直流電源控制的脈沖蒸發，源自碳棒或碳絲的可重復蒸碳。
● 金屬蒸發/光闌清潔頭：用于源自鎢絲籃或舟的金屬熱蒸發。
● 尺寸和重量：儀器機箱：585mm寬x 470mm長 x 410mm高 (總高: 650mm)
● 儀器總重量：33.4Kg