一、產品介紹
實驗內容：
光纖端面的處理及耦合
以光纖為相干光傳輸路徑，搭制馬赫-曾德爾干涉儀，并通過CCD觀察干涉條紋
測量溫度變化對干涉條紋的影響。
儀器特點；
通過CCD進行圖像采集
采用半導體激光器（650nm、4mw）作為光源。
采用半導體制冷器進行溫度調整和控制，溫控范圍：100C——400C
設備成套性：
光學實驗平臺、半導體激光器、分束鏡、七個自由度光纖耦合器、CCD攝像頭＋器、光纖、光纖刀、光纖剝皮鉗、半導體溫控儀等。
二、技術指標
光學實驗平臺（含桌）1200*800*80mm3.
半導體激光器635nm，3mW.
分束鏡（含架）1：1，二維可調
半導體制冷溫控儀：溫控范圍：100C——400C
實驗內容：
光纖端面的處理及耦合
以光纖為相干光傳輸路徑，搭制馬赫-曾德爾干涉儀，并通過CCD觀察干涉條紋
測量溫度變化對干涉條紋的影響。
儀器特點；
通過CCD進行圖像采集
采用半導體激光器（650nm、4mw）作為光源。
采用半導體制冷器進行溫度調整和控制，溫控范圍：100C——400C
設備成套性：
光學實驗平臺、半導體激光器、分束鏡、七個自由度光纖耦合器、CCD攝像頭＋器、光纖、光纖刀、光纖剝皮鉗、半導體溫控儀等。
二、技術指標
光學實驗平臺（含桌）1200*800*80mm3.
半導體激光器635nm，3mW.
分束鏡（含架）1：1，二維可調
半導體制冷溫控儀：溫控范圍：100C——400C
