TSV1300型精密光學真空鍍膜機
　　
　　我公司生產的自動光學真空鍍膜機具有石英晶體膜厚自動控制及光學膜厚自動控制兩種方式，通過PLC和工控機聯合實現對整個鍍膜過程的自動控制，包括真空系統，烘烤系統，蒸發過程和膜層厚度的監控功能，可實現無人值守的自動控制，從而了工作效率和產品質量的一致性和穩定性。
　　
　　應用范圍：
　　該設備采用e型電子蒸發源，可蒸發各種高熔點金屬和氧化物，可在玻璃，塑料，陶瓷基體上鍍制各種多層薄膜，如：紅外膜，寬帶增透膜，分光膜，冷光膜，IR-CUT膜，干涉截止濾光片，偏振膜，電學膜，適用于眼鏡，光學鏡頭，精密光學元件，激光和電子行業的大規模工業生產。
　　
　　主要特點：
　　1電子輸出功率穩定，結構設計二次電子的產生和電子打火。
　　2轉動采用磁流體引入，長期運轉密封。
　　3工件轉動座多重水冷和重力導向設計，運轉平穩，徑向和軸向跳動3-5mm.
　　4采用PLC＋觸摸屏控制，多重泵閥水電互鎖互保護，可自動控制，包括真空系統，烘烤系統，整個蒸發鍍膜過程。
　　5安裝采用四質譜監控和氦質譜檢漏，真空密封性好，設備工藝穩定。
　　6部件采用國內，電器元件采用或合資企業產品，設備24小時連續長期運行穩定。
　　基本參數：
　　1.立式前開門結構，不銹鋼真空室Φ1300X1500mm
　　2.限真空：1×10-4Pa（空載清潔真空系統，300°烘烤后）
　　3.恢復真空時間：大氣至4×10-a≤15min.
　　4.大抽速主泵，KT-630型擴散泵（18000L/s）兩臺，配備湍流裝置。
　　5.工件轉動：采用磁流體密封轉動裝置，轉動座多重水冷和重力導向設計，運轉平穩。
　　6.工件烘烤：桶狀上烘烤，三點控溫，烘烤溫度350°。
　　7.永磁E型電子，功率10KW/支；可配置單或雙，多穴坩堝和環形坩堝。
　　8.配備美國Inficon公司生產的SQC310C　或IC6型石英晶體膜厚控制儀。
　　9.10英寸觸摸屏和歐姆龍（PLC）編程控制器，對設備真空系統、蒸發源系統、烘烤系統、工件轉動系統、膜厚監控系統等進行監測和控制，可采用自動和手動兩種模式。
　　10.可選配Φ16CM的離子源或深冷低溫冷阱。