退火系統(tǒng)技術(shù)附件（趙先生：）

一、       系統(tǒng)的主要組成及技術(shù)指標(biāo)

限真空度：≤6.6x10^-5Pa (經(jīng)烘烤除氣后，冷態(tài))；

系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤5.0x10^-7 Pa.l/S；

系統(tǒng)短時(shí)間暴露大氣并充干燥氮?dú)夂螅匍_(kāi)始抽氣，40分鐘可6.6x10^-4 Pa；

停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空度：≤10 Pa；

1.1 、真空室：                                                1套

約為Ф800×550（mm）圓筒型立式雙層水冷全不銹鋼結(jié)構(gòu)。上蓋電動(dòng)升降，外表面工藝拋光處理，下面開(kāi)有泵接口，保護(hù)氣接口，鐘罩側(cè)面開(kāi)有電接口，鎢錸熱電偶接口，真空規(guī)接口，壓力表接口。除上述法蘭口外，在真空室的四周適當(dāng)位置留有CF35、CF63的備用法蘭口各一個(gè)，配以相應(yīng)的盲板。

1.2 、樣品加熱控溫系統(tǒng)：                                      1套

1.2.1、溫度：工作區(qū)為Ф350×250（mm），工作區(qū)加熱溫度為1300℃。

       工作區(qū)溫度均勻性：±10℃。

1.2.2、發(fā)熱體及保溫層：圓周和上下都布置加熱體，發(fā)熱體由鉬材料制成，多層金屬屏蔽。

1.2.3、加熱電源：直流可控硅加熱電源，側(cè)發(fā)熱體加熱功率約為30KW，上下加熱功率約為15KW；

1.2.4、控溫：室溫--1300℃采用鎢錸熱電偶測(cè)溫，3點(diǎn)控溫，分別位于測(cè)面和上下面，采用日本產(chǎn)溫控儀控溫表。

1.3 、樣品架系統(tǒng)                                             1套

鐘蓋升起后，樣品架固定在下底盤(pán)上，將工件放在樣品架上。

1.4 、工作氣路：

1.4.1、充氣閥RF16，管路、接頭等：1路（充保護(hù)氣體）

1.4.2、充氣閥D6，管路、接頭等：1路（解除真空沖氮?dú)猓?b>

3、抽氣機(jī)組及閥門(mén)、管道         1套                          

3.1  、復(fù)合分子泵及變頻控制電源：1臺(tái)（抽速1200升/秒，北京）；   

3.2  、直聯(lián)機(jī)械泵：1臺(tái)（抽速8升/秒，上海）；

3.3  、KF40電磁壓差閥：1臺(tái)（上海）；

3.4  、分子泵與機(jī)械泵軟聯(lián)接金屬軟管：1套 ；

3.5  、機(jī)械泵與真空室之間的旁抽管路、KF40電磁隔斷閥及角閥CF35：1套；

3.6  、CF200-B閘板閥：1臺(tái)（用于分子泵與真空室隔離）；