(一). 多功能電子束光刻設備Pioneer Two:

 Pioneer Two是一款比的成套的電子束光刻設備，采用30kV Gemini電子束技術，應用于2英寸以下晶圓的納米級光刻、高分辨成像及低壓電子束光刻。

20keV下在HSQ膠上曝光亞8nm線條

(二). 多功能電子束光刻設備eLine Plus:

    eLine Plus是一款集成了納米操縱設備，如納米探針、用于聚焦電子束誘導過程的氣體注入系統等各種多功能選件的電子束光刻設備，廣泛應用于學校和各大科研機構，采用30kV Gemini電子束技術，應用于4英寸以下基板的納米級光刻、納米工程、納米操縱、納米探測、納米輪廓儀、聚焦電子束誘導和成像分析等。

HSQ膠上制作亞5nm線條

(三). 型電子束光刻設備Raith150 Two:  

    Raith150 Two是一款高分辨電子束光刻設備，采用30kV Gemini電子束技術，應用于8英寸以下基板（可曝光面積6英寸）的納米級光刻、高分辨成像及低壓電子束光刻，可實現亞5nm的曝光結構。

HSQ膠上制作亞4.5nm線條及PMMA膠上制作精細的11nm線條

(四). 型電子束光刻設備Voyager:  

    Voyager是一款比采用的eWrite體系結構的電子束光刻設備，采用50kV eWrite 電子束技術，應用于8英寸以下基板（可曝光面積6英寸）的直寫，適合衍射光學元件、偽元件的加工及化合物半導體器件的加工。

HSQ膠上制作亞7nm線條

(五). 型電子束光刻設備EBPG5150/5200:  

    EBPG5150/5200是一款高自動化的電子束光刻設備，采用100kV EBPG 電子束技術，應用于8英寸以下基板（5150可曝光面積6英寸、5200可曝光面積8英寸）的高深寬比納米結構曝光、電子束直寫，適合偽標識的加工及化合物半導體器件的加工。

制作GaAs T型器件及在化合物半導體上的應用

(六). 納米加工和納米光刻升級配件Elphy:  

    Elphy系列光刻升級配件可以將現有的SEM、SEM-FIB、HIM等聚焦離子束電子束系統升級為納米光刻和納米加工設備。