分子渦輪高真空系統，CPU程序全自動控制，觸膜屏用戶界面，可鍍多種膜材，也可鍍相對較厚的膜。具有快速濺射易氧化和不氧化金屬（貴金屬）靶材的功能，可選各種濺射靶材，包括常用于場發射電鏡的銥和鉻。
可選配一系列可選附件，如：金屬蒸鍍、碳絲蒸鍍、膜厚測量等。
標準配置的樣品臺，無傾角，高度不可調。如果需要傾斜樣平臺，需要另外選擇。
主要技術指標：
尺寸和重量：儀器機箱：585mm寬x 470mm長 x 410mm高（總高：650mm）
儀器總重量：33.4Kg
工作腔室：硼硅酸鹽玻璃，152mm（內）x 127mm高
觸摸屏全圖像用戶界面
樣品臺：標配件（無傾角，高度不可調），轉速8-20rpm
真空系統：
渦輪分子泵：帶有空氣冷卻的渦輪分子泵（標準配置里面）
旋轉機械泵：雙級旋轉機械泵（需要另購）
真空度：5x10-3-----5x10-1 mbar
濺射時間：長60分鐘
濺射靶材：57mm＆Oslash；x 0.3mm Chromium（標準配置：鉻靶材一個）
可選配一系列可選附件，如：金屬蒸鍍、碳絲蒸鍍、膜厚測量等。
標準配置的樣品臺，無傾角，高度不可調。如果需要傾斜樣平臺，需要另外選擇。
主要技術指標：
尺寸和重量：儀器機箱：585mm寬x 470mm長 x 410mm高（總高：650mm）
儀器總重量：33.4Kg
工作腔室：硼硅酸鹽玻璃，152mm（內）x 127mm高
觸摸屏全圖像用戶界面
樣品臺：標配件（無傾角，高度不可調），轉速8-20rpm
真空系統：
渦輪分子泵：帶有空氣冷卻的渦輪分子泵（標準配置里面）
旋轉機械泵：雙級旋轉機械泵（需要另購）
真空度：5x10-3-----5x10-1 mbar
濺射時間：長60分鐘
濺射靶材：57mm＆Oslash；x 0.3mm Chromium（標準配置：鉻靶材一個）
